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簡要描述:日本EHC 自動轉(zhuǎn)印顯影機ACT-300A2緊湊型自動轉(zhuǎn)印顯影機。ACT-300A2S自動轉(zhuǎn)印型顯影機在旋轉(zhuǎn)6英寸以下的基材時進行噴霧顯影。它配備了兩套顯影液系統(tǒng)、一套沖洗系統(tǒng)和一把氣刀,配方設(shè)置操作可通過觸摸屏進行,可實現(xiàn)多達25種基質(zhì)的自動顯影。
日本EHC 自動轉(zhuǎn)印顯影機ACT-300A2
緊湊型自動轉(zhuǎn)印顯影機。
ACT-300A2S自動轉(zhuǎn)印型顯影機在旋轉(zhuǎn)6英寸以下的基材時進行噴霧顯影。
它配備了兩套顯影液系統(tǒng)、一套沖洗系統(tǒng)和一把氣刀,配方設(shè)置操作可通過觸摸屏進行,可實現(xiàn)多達25種基質(zhì)的自動顯影。
也可提供無自動處理的單晶片類型。
日本EHC 自動轉(zhuǎn)印顯影機ACT-300A2
主要規(guī)格。
處理能力:可連續(xù)處理25張6英寸以下的圓形基材。
流程:顯影劑:2個系統(tǒng),漂洗:1個系統(tǒng),氣刀:1個系統(tǒng)?!?/p>
使用的化學(xué)品:堿性顯影劑,去離子清洗水。
處理能力 多達25個6英寸的圓形基片(專用盒式存儲型)。
過程開發(fā)者2系統(tǒng)(噴嘴可互換)。
1個漂洗系統(tǒng) 1個氣刀系統(tǒng)
使用的化學(xué)品 堿性顯影劑 去離子清洗水
轉(zhuǎn)移機器人Tatsumo定心臺,用于準(zhǔn)確定位基片。
可以注冊10個步驟x50個模式的食譜。
以0.1秒為增量的處理時間設(shè)置
板速交流伺服電機控制的 0-3000 rpm 精度±2 轉(zhuǎn)速以內(nèi)
設(shè)備尺寸 W1120 x D920 x 高1950毫米,zui大50 0公斤或以下
控制系統(tǒng)8英寸觸摸面板操作
吸水臺 白色特氟隆,真空孔吸水式
罐體容量為18L,與機體分離,通過稱重傳感器檢測殘余液位。
顯影液控制溫度20-30°C ± 3°C
公用事業(yè) 3相200V/30A 1個漏電斷路器
內(nèi)置真空泵
空氣0.5兆帕
氮氣 0.3 MPa
排氣管 2個排氣系統(tǒng)(電動排氣管、杯式排氣管),?75 mm
顯影液廢液 收集在聚乙烯罐中或與工廠廢物相連